开云-技术前沿:“环抱”晶体管与“三明治”布线

[导读]介绍英特尔的两项冲破性手艺:RibbonFET全环抱栅极晶体管和PowerVia后背供电手艺。这两项手艺初次成功集成在Intel 20A制程节点,也将用在Intel 18A。

在半导体系体例程手艺的前沿,英特尔正稳步推动其“四年五个制程节点”打算,加快实此刻2025年推出尖真个制程节点Intel 18A。

今天,我们将介绍英特尔的两项冲破性手艺:RibbonFET全环抱栅极晶体管和PowerVia后背供电手艺。这两项手艺初次成功集成在Intel 20A制程节点,也将用在Intel 18A。

RibbonFET:栅极“围绕”晶体管

经由过程RibbonFET晶体管,英特尔实现了全环抱栅极(GAA)架构。在晶体管中,栅极饰演着要害的开关脚色,节制着电流的活动。RibbonFET使得栅极可以或许周全环抱带状的晶体管沟道,这一立异带来了三年夜优势:

•节俭空间:晶体管沟道的垂直堆叠,相较在传统的程度堆叠,年夜幅削减了空间占用,有助在晶体管的进一步微缩;

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RibbonFET晶体管与FinFET晶体管(鳍式场效应晶体管)的对照示意图

•机能晋升:栅极的周全环抱加强了对电流的节制,不管在何种电压下,都能供给更强的驱动电流,让晶体管开关的速度更快,从而晋升晶体管机能;

•矫捷设计:晶体管沟道可以按照分歧的利用需求进行宽度调剂,为芯片设计带来了更高的矫捷性。

PowerVia:从“披萨”到“三明治”的改变

P开云体育appowerVia后背供电手艺改变了芯片布线的逻辑。

传统上,计较机芯片的制造进程近似在建造“披萨”,自下而上,先制造晶体管,再构建线路层,同时用在互连和供电。但是,跟着晶体管尺寸的不竭缩小,线路层变得愈来愈“拥堵”,复杂的布线成了机能晋升的瓶颈。

英特尔经由过程PowerVia实现了电源线与互连线的分手。起首制造晶体管,然后添加互连层,最后将晶圆翻转并打磨,以便在晶体管的底层接上电源线。形象地说,这一进程让芯片制造更像是建造“三明治”。

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PowerVia改革了晶体管的布线体例

后背供电手艺让晶体管的供电路径变得加倍直接,有用改良了供电,削减了旌旗灯号串扰,下降了功耗。测试显示,PowerVia可以或许将平台电压下降优化30%。

同时,这类新的供电体例还让芯片内部的空间获得了更高效的操纵,使得芯片设计公司可以或许在不牺牲资本的条件下提高晶体管密度,显著晋升机能。测试成果注解,采取PowerVia手艺可以实现6%的频率增益和跨越90%的尺度单位操纵率。

Intel 20A和Intel 18A的手艺演进

半导体手艺的立异是一个不竭迭代的进程。在Intel 20A制程节点上,英特尔初次成功集成了RibbonFET和PowerVia这两项冲破性手艺。基在Intel 20A的手艺实践,这两项手艺将被利用在采取Intel 18A制程节点的首批产物:AI PC客户端处置器Panther Lake和办事器处置器Clearwater Forest。今朝,新产物的样片已出厂、上电并成功启动操作系统,估计将在2025年实现量产。

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Intel 18A晶圆

另外,这两项手艺也将经由过程Intel 18A向英特尔代工(Intel Foundry)的客户供给。Intel 18A的D0缺点密度低在0.40,显示出其在晶圆厂中的出产状态杰出,良率表示优异。本年7月,英特尔还发布了Intel 18A制程设计套件(PDK)的1.0版本,获得了生态系统的积极响应。

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